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CRF plasma 等離子清洗機

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講述低溫CRF等離子表面處理設備如何提高材質的絕緣性能能

講述低溫CRF等離子表面處理設備如何提高材質的絕緣性能能:
       隨著材料科學的發展,越來越多的專家對絕緣層材料的表面改性或納米改性進行了研究。CRF等離子表面處理裝置可增強絕緣層材料的電荷量耗散率,并增強其耐電壓。有學者將絕緣層材料置于F2與其它惰性氣體混合的環境中,對絕緣層材料進行直接氟化,在絕緣層材料表面形成氟化屏蔽層,不但抑制電荷量的注入,并且增強了電荷量的消散率,改善了材質的絕緣性能能。中國科學院電工所邵濤使用低溫等離子法,利用介質阻擋放電(DBD),對絕緣層材料表面進行射流放電處理。

      研究發現:CRF等離子表面處理設備改性后,絕緣層材料表面導電率增強(增大),電荷量消散速度加快。與此同時,絕緣層材料表面引入改性后,由于改性設備等因素的限制,有可能對試樣表面造成損傷。然而,傳統式的氣體氟化方法需要多天的時間來處理。這些材質主要局限于CRF等離子表面處理設備絕緣試樣的改性研究。在實際GIL中,絕緣子的形狀特征與絕緣樣品有很大不同,大規模的工業使用仍需進一步研究。
       CRF等離子表面處理設備對絕緣層材料配方系統的改性可以從源頭上增強絕緣子的性能。為此,許多專家開始研究如何在絕緣層材料中加入無機填充料,從而全面提高材質的電荷量消散率,從而全面改善聚合物的絕緣性能能。AlN作為一種新型無機填充料,具有傳熱性高、熱膨脹系數低等優點,備受國內國外專家的普遍的關注。研究表明,加上微米AlN后的環氧樹脂膠不僅增強了傳熱性,并且增強了機械性能。但與傳統式的Al2O3等填充料對比,加上AlN后環氧樹脂膠的絕緣性能能有所下降,限制了AlN在環氧樹脂膠配方填充料中的使用。

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