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CRF plasma 等離子清洗機

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誠峰等離子體發生器清洗/刻蝕機對大多數高分子復合材料的濺射

誠峰等離子體發生器清洗/刻蝕機對大多數高分子復合材料的濺射:
       等離子體發生器清洗/蝕刻機產生的等離子體在封閉的空腔內設置2個電極生成靜電場,用真空泵實現一定的真空度。隨著氣體越來越薄,分子間距和分子或離子的自由移動距離越來越長。在靜電場的作用下,它們會發生碰撞,生成等離子體。這些離子體具有很高的活性,它們的能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,并在任何暴露的表面引起化學反應。不一樣氣體的等離子體具有不同的化學性質。例如,氧氣等離子體具有較高的氧化性,能夠氧化光刻膠反應產生氣體,從而達到清潔效果;腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性,可以滿足腐蝕的需要。利用等離子處理時會發出輝光,故稱之為輝光放電處理。

等離子體發生器

       等離子體發生器技術的最大特點是可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環氧樹脂,甚至聚四氟乙烯,可以實現整體、局部和復雜結構的清潔。
       經濟快速發展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質量要求也日益提高,等離子體發生器隨之逐步進入生活消費品生產行業中;另外,科技的不斷發展,各種技術問題的不斷提出,新材料的不斷涌現,越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性,并投入大量資金進行技術攻關,等離子體發生器在其中發揮了非常大的作用。我們相信等離子體技術用范圍會越來越廣;技術成熟,成本降低,應用會越來越普及。

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