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CRF plasma 等離子清洗機

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使用低溫等離子設備產生的溫度對材料的工藝的影響有多大？

使用低溫等離子設備產生的溫度對材料的工藝的影響有多大？
        低溫等離子設備的主機通常是13.56兆赫茲的射頻電源，因其產生的等離子致敏性高，能量比氣態分子高，而且溫度較低，一般輸出功率為1~2KW，大功率為5KW，小功率為數百W，多輸出功率為40KHz，中頻輸出功率為40KHz，與射頻電源相反，電漿相對密度較低，但功率大，能量高，大功率為幾十KW。真空低溫等離子設備放電射頻清潔器的溫度與平日屋內溫度也一樣，當然要是全天都在使用真空低溫等離子設備還是匹配上水冷卻系統。

低溫等離子設備

       電漿噴射的均溫處于200至250℃。如果能夠正確設定距離和速度，表面溫度可以達到70-80℃。本工藝適用于各種標準品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗，一般采用噴射式低溫等離子設備，也可應用于流水線上的裝置，由于流水線的不斷運轉，材料在噴嘴下停留時間較長。由于氮氣能降低等離子體溫度，有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是，低溫等離子設備中還有一種產品叫做電暈，其實電暈也是等離子體清洗機的一種分類。電暈機的洗滌溫度一般較高，電暈機與噴射等離子體的洗滌溫度相似，有時遇到不耐高溫的材料，也會用氮清洗。事實上，沒有必要太擔心溫度問題。目前的低溫等離子設備可以很好地調節溫度，使材料清洗達到理想的成效。

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