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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma等離子處理系統(tǒng)-如何去掉焊層表層的雜質(zhì)和金屬氧化物

       小編今天給大家講述一款在設(shè)備清洗行業(yè)常見的系統(tǒng),它叫plasma等離子處理系統(tǒng),接下來從下面四大板塊闡述它是如何去掉焊層表層的雜質(zhì)和金屬氧化物?
一、金屬鍵合前的等離子清洗
       采用plasma等離子處理系統(tǒng)技術(shù),可有(效)去掉焊層表層的雜質(zhì)和金屬氧化物,提供干凈的焊接表層,提高金屬粘接后期的接合強度和接合強度。

plasma等離子處理系統(tǒng)

二、塑封前的等離子清洗
        plasma等離子處理系統(tǒng)清洗和(活)化能夠除掉設(shè)備表層各種(納)米級污染物的殘留,改善表層能量,保證塑料密封和基材的緊密結(jié)合,減少分層等不良后果。
三、底部填充前的等離子清洗:
       利用plasma等離子處理系統(tǒng)清洗,能夠除掉焊層表層的外來污染物和金屬氧化物,提供干凈的焊接表層,改善后期金屬結(jié)合工藝的良性和結(jié)合強度。

plasma等離子處理系統(tǒng)

四、光刻膠的除掉:
       plasma等離子處理系統(tǒng)除掉光刻膠是一種常見的方式,利用等離子處理能夠除掉(顯)影(后)孔底的殘膠,并對洞孔的外壁進行修飾,故而改善了后期的工藝合格率。另外,濕法脫膠后,用等離子體除掉(納)米光刻膠上殘留的殘留物,能夠有效改善后期處理的合格率。
plasma等離子處理系統(tǒng)設(shè)備特點:
A、13.56MHz射頻電源與自動匹配系統(tǒng),具有優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復(fù)性;
B、靈活的電極結(jié)構(gòu)設(shè)置與優(yōu)化的氣體饋入、分布方案,確保大批量處理的均勻性;
C、精準(安)全的反應(yīng)源供應(yīng)系統(tǒng),可滿足多種工藝需求;
D、PLC與工控機可提供穩(wěn)定的過程控制,顯示屏的數(shù)據(jù)實時在線顯示或傳輸;
E、系統(tǒng)穩(wěn)定可靠,易于保養(yǎng)與維護。
        CRF plasma等離子處理系統(tǒng)是誠峰智造比較熱(銷)的設(shè)備,不僅成本低,而且不用怎么維護,歡迎朋友們咨詢了解。

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